从扑街写手到学霸科学家(215)

　　目前国内比较容易买到里比较先进的光刻机就在曹能能的实验室, 28nm制程, 最高可制造22nm, 但那是从国外买的, 而且也经过了多方的手续。

　　221计划的最终目的是突破14nm的光刻机, 并且建设上下游相应的工艺研发生产线，这才是华夏老大难的问题。

　　而不是有没有这个技术的问题。

　　宋问声是以为国家只能制造90nm的光刻机，进来之后他才发现他这是小瞧了天下英雄。

　　其实SMEE在前年的时候65nm的光刻机已经突破，并且低调封装。

　　28nm的光刻机在悄悄研发，目前已经在国家验收当中。

　　宋问声的光刻胶其实只是配合曹能能他们实验室改性，做到了193纳米浸润光刻，这个193和晶圆的大小几nm的不一样，193nm说的是光源的波长，除了193之外还有一种248nm的光线。

　　这意味着这款光刻胶可以制造14nm到90nm之间的纳米芯片。

　　别人过去二十年用的是CAR，这几年都是在考虑金属氧化物或者干性光刻胶，富勒烯……这是个什么玩意儿？

　　富勒烯能够量产了？

　　别问，问就是宋问声给雷电科技以及华科的牵线搭桥。

　　他手中的富勒烯实验室技术也给了雷电科技，要中试要放大要实现产业化，交给他们了！

　　而且这还不是它的终点，富勒烯光刻胶绝对可以更深的研究下去。

　　作为拥有它们资料的人，宋问声是再清楚不过的了。

　　咱们华夏藏着一些技术，外国未必没有，去年年底的时候，ASML即已经提出了3nm光刻机产业化。

　　他们甚至想要延续摩尔定律，将半导体工艺再未来几年内推进到1nm，但是工艺发展到3nm就已经进行不下去了。

　　各种各样的东西桎梏着发展。

　　材料、设备、制造……

　　他们一个一个问题都被解决了，剩下光源和光刻胶这两个问题始终难以解决和替代。

　　可是在ASML收购美国光源制造商Cymer之后，光源问题得到了解决，那就剩下一个问题——光刻胶。

　　他们认为是光刻胶技术的限制让他们无法突破到1nm。

　　因此这些年来材料商想尽各种办法解决，但是效果不尽如人意。

　　富勒烯光刻胶是被宋问声给予厚望的东西，在系统给出的方案里，他已经看到了它们的应用前景。

　　包括不仅限于1nm的光刻胶技术。

　　这个潜力上面的人目前还没有察觉到，毕竟现在只是在华科秘密试验生产，考察团只是看了一些数据。

　　宋问声他们三人小组目前的主要任务就是改性光刻胶，让它们突破14nm的桎梏，最好到达7nm。

　　时间足够长的话这并不是什么紧急任务，但是应富华提醒了他们时间才是最重要的问题。

　　所以本来松了一口气的三个人还是稍微拉紧了一点皮。

　　第一天就是在讨论总体路线，其实和光刻胶小组关系并不算太大，光刻机那边是一个整体，光刻胶对他们影响不大。

　　但是宋问声还是听得很认真，在这个过程当中他也算是学习吧。

　　被分配到他们这边的学者基本上和曹能能他们有些联系，曹能能和吴勇也算是国内光刻胶翘楚，是山头，又以宋问声为主，所以光刻胶小组才见第一面就全部被宋问声收服了。

　　整个小组里有的人可能知道，也可能不知道，但也并不耽误宋问声对他们说接下来的规划路线。

　　此时此刻，曹能能和吴勇充当了狗腿子，分发宋问声花了一点时间整理出来的资料和路线。

　　宋问声站在主位，目光带着一点威势扫视着他们，大家噤声不敢言。

　　其实宋问声是在看系统弹射出来的光屏，那是是一个新任务。

　　很久没有接过任务，宋问声都有些恍然了。

　　现在的他最期待的还是完成任务的奖励，如果是抽奖那就更好了。

　　之前几次抽奖，他都看见奖池里有不少的好东西。

　　“系统任务：请宿主在光刻机攻克计划当中有一定的贡献，奖励程度视贡献而定。贡献程度：0/100%。”

　　“接受。”

　　收起光屏，宋问声看见这些人都乖乖的低头看路线，他点头，在黑板上写下总路线。

　　三十分钟之后，他问，“有人有疑问吗？”

　　一个三十多岁带着眼睛的男人，颤颤巍巍的举起手试探道，“富勒烯，我们国内好像没有这样的技术，世界上也是没有的。”

　　大家一下子用看勇士的目光看向他。

　　宋问声点头，并不隐瞒，事实上这里也有部分人是知道的，“开年的时候，我就已经交了一份类似技术给华科，相信在座的同僚有不少是知道业内消息的。”

　　“还有问题吗？”宋问声的目光在他们身上梭巡。

　　“那富勒烯的量产……”另一个人问。

　　“雷电科技今年开春已经放出消息石墨烯量产。”宋问声没有说富勒烯，而只是提了一句石墨烯，就开始收拾资料，准备去实验室熟悉一下情况。

　　他的未尽之语大家都明白了。

　　唉，碳纳米管、石墨烯、富勒烯……这些东西就像是大佬掌心的玩物，想怎么揉搓就怎么揉搓。

　　吴勇小声地对曹能能说了一句，“还是你机灵，咱找了个好大腿！”

　　曹能能有些许得意，“那是！”

　　要想提高精度，和之前一样光靠富勒烯是不行了。

　　他们接下来的目标是几种富勒烯衍生物，一样是带酚基的，一样是含金刚烷还有其他若干。

　　甚至是非富勒烯体系的，也在他们研究之列。

　　一些则是现在普遍用的光刻胶，一些是国内学者研究地很多的9，9\'-螺二芴衍生物和双酚A衍生物，还有一些分子玻璃胶、酚醛树脂胶等等。（1）

　　这些都在他们的考察之列。

　　宋问声不可能因为自己有资料，就放弃研究其他的东西。

　　这样会故步自封。

　　起得比鸡早，睡得比狗晚，大概就是他们这样的了，就连饭是在等待实验的时候吃。

　　最忙碌的应该是宋问声。

　　他亲自指点那几个研究员合成富勒烯系列的衍生物，有时候还要去看看其他人合成得怎么样。

　　而曹能能和吴勇他们也是各自带领人研究别的，他们的经验也只是对别的，富勒烯这边他们插不上什么手。

　　有了宋问声时不时的指点，他们整个光刻胶小组每三天工作进度汇报上，永远都是走在最前列的。

　　时间只有六个月。

　　进入221项目大半个月的时候，他们的带酚基富勒烯光刻胶就已经验收成功，可以用在10nm-14nm的芯片制造当中。

　　这件喜事被迅速通报给全基地，给研发光刻机陷入低迷状态的研究员们带来一些鼓励和安慰。

　　在得知这是宋问声领导的小组之后，众人只有膜拜和感慨几个词语来形容他们此时此刻的心情了。

　　宋问声不愧是论文刷子！

　　不，应该说是科研杀手，在你意想不到的时候总是给人来那么一下，带来的不是绝望而是希望。

　　有了这件事情当做典型，基地里的许多研究员再次拾起刚来的时候的雄心壮志，重新上路。

　　曹能能和吴勇他们也在加紧，但是他们不是宋问声，没有那种如有神助的科研直觉和系统，只能靠他们的科研经验摸索。

　　他们也很不错，在一个月内，把以前使用的金属氧化物的聚合物光刻胶的精度提高到了可以在65nm-90nm的芯片制造当中使用，当然这里头离不开宋问声的指点。

　　本来有些小得意的他们，很快又被宋问声打败。

　　富勒烯衍生物 IM-MFPT在制程10nm以内表现出了比含酚基的富勒烯光刻胶更好的灵敏度和分辨率、低线宽粗糙度、高耐蚀刻性和工业加工相容性。（1）

　　而宋问声他们也迅速突破到了精度为5-10nm之内的芯片制造所使用的光刻胶。

　　作者有话说：

　　（1）来自于《7 nm 高分辨率极紫外光刻胶研究新进展》，谭俊玉；

　　（2）看到新闻说要有3nm的光刻机量产了，我心里一阵着急；

　　（3）富勒烯量产是个漏洞，我都忘记了，现在只能几句话补回来，前头光刻胶测试的时候忘记提一提中芯国际和芯片流片的问题了，大家忽略吧。